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瀏覽:- 發(fā)布日期:2023-04-07 13:17:22【

尚俊玲1,吳利翔2

(1.華南理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院 實(shí)驗(yàn)中心,廣州 510641;2.廣東工業(yè)大學(xué) 機(jī)電工程學(xué)院,廣州 510006) 

摘 要:采用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)10kV 20kV ,對(duì) SiC/W 擴(kuò) 散偶中鎢元素的面分布和線分布進(jìn)行了分析結(jié):10kV ,激發(fā) M 線系,鎢元素的 M 線系和硅元素的 K 線系發(fā)生重疊,從而導(dǎo)致材料中鎢元素和硅元素在面分 布和線分布下無法區(qū)分將加速電壓從10kV 提高至20kV,發(fā)L,實(shí)現(xiàn) 了鎢元素的分布表征,使鎢元素分布趨近于真實(shí)分布情況數(shù)據(jù)進(jìn) 驗(yàn) 10kV 加速電壓下鎢M 和硅元素的 K 線系重疊引起的。 

關(guān)鍵詞:掃描電鏡;;;;中圖分類號(hào):TB79;TB333 文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A 文章編號(hào):1001-4012(2021)04-0034-05

能譜儀是掃描電鏡的重要配件之一能譜儀與 掃描電鏡組合使用,可以對(duì)樣品進(jìn)行元素組成的定 定量分析與元素分布等方面的研究,是材料制備 與研究領(lǐng)域非常重要的儀器設(shè)備,廣泛應(yīng)用于金屬陶瓷礦物水泥半導(dǎo)體紙張塑料刑偵案件等的 分析測(cè)試中[1-2]能譜儀的工作原理是在高真空環(huán)境下,電子槍 發(fā)射高能電子束轟擊樣品表面,與樣品表面元素原 子相互作用,使原子內(nèi)層電子被電離,產(chǎn)生空;外層電子向內(nèi)層空位躍遷,放出特征 X 射線[3]過探測(cè)樣品產(chǎn)生的特征 X 射線的能量,能譜儀就可 以確定其相對(duì)應(yīng)的元素種類,并對(duì)其進(jìn)行定性定量 分析但在實(shí)際應(yīng)用中,受能譜儀分辨率以及元素種類眾多的影響,往往存在著譜線間的干擾或重疊 現(xiàn)象[4-5]所以對(duì)元素的疊譜線進(jìn)常重要許多研究人員[3-9]對(duì)能譜使重疊峰的識(shí)別和分離進(jìn)行了研究,但對(duì)元素譜線重 合導(dǎo)致的元素錯(cuò)誤分布,以及如何解決等方面卻鮮 有報(bào)道激發(fā)元素的特征 X射線是需要能量的,能量不 ,同一元素激發(fā)出的特征 X 射線不同,能譜儀檢 測(cè)到的特征 X射線及其強(qiáng)度也不同所以,能譜儀 工作時(shí)的加速電壓大小對(duì)元素的分析也是非常重要 由此,在采用能譜儀對(duì)樣品進(jìn)行分析時(shí),要求入 射電子能量大于被測(cè)元素臨界激發(fā)能,才能較準(zhǔn)確 地檢測(cè)出該元素的存在,有資料推薦過壓比在2~3 倍時(shí)分析最佳掃描電鏡觀測(cè)樣品時(shí),由于二次電子信號(hào)來自 樣品表面一定厚度內(nèi)的區(qū)域,所以觀測(cè)到的樣品形 貌與加速電壓有關(guān)加速電壓越低,觀測(cè)到的樣品 形貌越接近樣品的真實(shí)形貌[10]但同時(shí)低的加速 電壓,可能導(dǎo)致某些元素的特征 X 射線激發(fā)不足或 激發(fā)不了筆者以碳化硅(SiC)陶瓷/金屬鎢(W)擴(kuò) 散偶中鎢元素為例,分別用10kV 20kV 的加速 電壓進(jìn)行了鎢元素的面分布及線分布的研究,結(jié)合 SiC/W 擴(kuò)散偶的擴(kuò)散機(jī)理[11],發(fā)現(xiàn)鎢元素在10kV 加速電壓下的分布紊亂是由鎢元素和硅元素的線系 重疊導(dǎo)致,并且在最佳測(cè)試電壓20kV 下通過手動(dòng) 調(diào)整鎢元素和硅元素的線系進(jìn)行數(shù)據(jù)再處理,進(jìn)一 步對(duì)線系重疊導(dǎo)致鎢元素分布紊亂進(jìn)行驗(yàn)證,從而 優(yōu)化得出最佳試驗(yàn)方法

1 試驗(yàn)方法 

試驗(yàn)所使用的主要儀器為:HitachiSU8220掃描電子顯微鏡(SEM),OxfordX-Max N 型能譜儀 (EDS),能譜軟件為牛津 Aztec。電鏡加速電壓分 別為10kV 20kV。 分析材料為高溫高壓下實(shí)現(xiàn)連接的 SiC/W 擴(kuò) 散偶通過截取SiC/W 擴(kuò)散偶截面進(jìn)行機(jī)械拋光然后將樣品用導(dǎo)電膠黏在掃描電鏡樣品臺(tái)上,用掃 描電子顯微鏡觀察其形貌,用能譜儀對(duì)其進(jìn)行元素 面掃描和線掃描分析

2 試驗(yàn)結(jié)果與分析 

2.1 電鏡形貌分析

SiC/W 擴(kuò)散 偶 的 截 面 拋 光 后 背 散 射 形 貌 如1所示1中上下兩側(cè)為SiC陶瓷,中間層為 ,1SiC 1,鎢與 SiC 面結(jié) 合緊密,界面平直干凈采用能譜儀在10kV ,對(duì)1進(jìn)原位面掃描分析(因碳對(duì),),結(jié)22a)SiC側(cè)對(duì)應(yīng),在上下兩側(cè)的陶瓷部分的硅元素含量多,在中 鎢層的硅SiC固相擴(kuò) 應(yīng)機(jī),1500 ,SiC的硅 和碳都在向金屬鎢中擴(kuò)散,然而,金屬鎢并沒有向 SiC擴(kuò);2a)結(jié)果素在 實(shí)2b)的面分布圖,由圖2b)可以看出,鎢元素在整個(gè)擴(kuò) 散偶中沒有明顯的顏色差異,即整個(gè)擴(kuò)散偶的鎢元素分布幾乎一致,并且中間鎢層中鎢元素的含量反 而稍微弱于上下兩側(cè)SiC中的鎢含量然而,根據(jù) 現(xiàn)有文獻(xiàn)報(bào)道可知,SiC/W 擴(kuò)散偶中的SiC陶瓷 側(cè)中幾乎沒有檢測(cè)到鎢元素的存在[12]由此可知, 這時(shí)得到的樣品中鎢元素的分布可能有誤;為了驗(yàn) 證以上猜想,進(jìn)一步采用線掃描進(jìn)行分析3a)中白線為樣品中線掃描的位置3b) 是沿圖3a)中白線位置從上到下的線分布曲線3b)可 以 看 出,硅 元 素 在 上 下 陶 瓷 部 分 (0~ 20μm)(70~100μm),(20~70μm),2b)結(jié)對(duì)應(yīng)SiC陶瓷與金屬之間固相擴(kuò)散原理可知,中間層 中少量硅元素來自上下兩側(cè) SiC 陶瓷中硅向中間 層擴(kuò)散[13]由圖3b)可知,鎢元素在整個(gè)線掃描范 圍內(nèi),含量曲線幾乎呈直線,下陶瓷層中鎢含量 反而比中間鎢層中的略有增多,與事實(shí)相違背此可知,10kV 加速電壓下,能譜儀得到的鎢元 素的線掃描結(jié)果與面掃描結(jié)果一樣,進(jìn)一步驗(yàn)證了 檢測(cè)到的鎢元素不可靠

此時(shí),能譜儀在10kV 加速電壓下得到的硅和 鎢元素的面掃描和線掃描結(jié)果均為能譜軟件自動(dòng)給出的結(jié),硅元素是 K 線系,鎢元素是 M 線系對(duì) 比圖3b)中的硅元素和鎢元素的線分布曲線,可以 看出鎢元素的線分布曲線和硅元素的線分布曲線具 有相同的曲線特征如在0~70μm 70~100μm 時(shí),兩條曲線的波動(dòng)具有一致性硅元K 能 量 為 1.739keV,鎢 元 素 的 M 線 系 能 量 為 1.775keV,兩者的能量差僅為3.6×10 -2 keV,能量 差太小,遠(yuǎn) 小 于 目 前 性 能 最 好 的 能 譜 儀 的 分 辨 率 (1.3~1.510 -1 keV,動(dòng)M K 系進(jìn) 行有 效 分 離而 鎢 元 素 的 L 線 系 的 能 量 為 8.3977keV,10kV ,1.19,2,發(fā),結(jié)M 線系與硅元素的 K 線系發(fā)生了重疊而導(dǎo)致的的原數(shù)14,數(shù)74,的線況屬數(shù)K 系與原子序數(shù)高的元素 M 線系重疊[4]對(duì)于這種 K M 重疊的情況, 通過解決[3]。 

2.3 20kV加速電壓下元素分布分析

4是采用能譜儀在20kV 的加速電壓下對(duì) SiC/W 擴(kuò)散偶原位面掃描元素分布圖由圖4a) 可以看出,硅元素在上下兩側(cè)的陶瓷中均勻分布, 此時(shí)硅元素含量明顯多于中間鎢層中的硅元素含 這個(gè)結(jié)果與圖2a)一樣;由圖4b)可以看出,元素集中分布在中間的鎢層中,且呈均勻分布;時(shí),并沒有在上下兩側(cè)的陶瓷中檢測(cè)到鎢元素,與文獻(xiàn)[14]報(bào)道結(jié)果一致綜上可知,20kV 加速電壓下,硅元素和鎢元素的分布更趨近于樣品 的真實(shí)元素分布5為采用20kV 加速電壓下SiC/W 擴(kuò)散偶 線掃描圖譜由圖5中線掃描結(jié)果可以看出,硅元 素的分布趨勢(shì)與10kV 時(shí)接近,都是在上下兩側(cè) 的陶瓷中具有更多的硅元素,而在中間鎢層中含量 然而,20kV ,硅元素在陶瓷側(cè)的計(jì)數(shù)從 10kV 下的約420增加到20kV 下的1700;中間鎢 層中硅元素的計(jì)數(shù)從約200增加至600。相比于圖 3a),鎢元素的線分布曲線發(fā)生了明顯的變化,在中 間鎢層中明顯具有更多的鎢元素分布,計(jì)數(shù)約250, 在上下兩側(cè)的陶瓷層中計(jì)數(shù)趨近于0。綜上可知, 20kV 下得到的鎢元素的面分布和線分布更趨 近于真實(shí)情況,而且,20kV 下得到的元素分布圖上 的信號(hào)比10kV 下的強(qiáng)。 

此時(shí),能譜儀20kV 加速電壓下鎢元素的面掃 描和線掃描結(jié)果均為能譜軟件自動(dòng)給出的結(jié)果元素為 K 線系,元素為 L 線系硅元素的 K 系能 量 為 1.739 keV,鎢 元 素 L 線 系 的 能 量 為 8.3977keV,能量差為6.6587keV。而且,此時(shí)的 過壓比約為2.38,也滿足過壓比2~3的要求,通過提高加速電壓,激發(fā)鎢元素的 L 線系,可以解決鎢元素的 M 線系與硅元素的 K 線系重疊造成 的鎢元素分布紊亂問題。 

2.4 數(shù)據(jù)再處理 

打開20kV 下采集的面掃描數(shù)據(jù),在能譜軟件 中將鎢元素從 L線系改成 M 線系時(shí)硅元素與 鎢元素的面分布結(jié)果如圖6所示6b)中鎢元素 的分布趨勢(shì)與圖2b)中的相類似,鎢元素在兩側(cè)陶 瓷中含量多,在鎢層中含量少,此時(shí)鎢元素的面分布 結(jié)果也不可靠而相比于圖4a),硅元素的分布則 幾乎沒有發(fā)生任何變化綜上可知,鎢元素的線系 L改成 M,僅僅改變了鎢元素的分布結(jié)果,對(duì)硅 元素的分布結(jié)果幾乎沒有影響

同樣地,打開20kV 下采集的線掃描數(shù)據(jù),對(duì) 鎢元素進(jìn)行同面掃描數(shù)據(jù)再處理中同樣的操作,結(jié) 果如圖7所示相比于圖5b),在圖7b)中硅元素 的線分布曲線沒有發(fā)生變化并且,7b)中鎢元 素的分布與圖3b)的類似,鎢元素的線分布在上下兩側(cè)陶瓷中較多,在中間鎢層中含量較少,而且, 鎢元素在陶瓷側(cè)具有硅元素的線分布曲線特征3b)中相比,受加速電壓從10kV 增加到20kV 的影響,硅元素和鎢元素線分布的計(jì)數(shù)有所增加

3 結(jié)論及建議 

10kV 加速電壓下,能譜儀對(duì) SiC/W 擴(kuò)散 偶中的硅元素和鎢元素進(jìn)行分布分析時(shí),由于鎢元 素的 M 線系與硅元素的 K 線系的能量差很小(3.6×10 -2keV),導(dǎo)致鎢元素與硅元素發(fā)生線系 重疊,從而在元素的面分布和線分布中出現(xiàn)鎢元素 分布紊亂的情況通過提高加速電壓到20kV,元素激發(fā)出 L線系,鎢元素L線系和硅元素K 線系的能量差增大(6.6587keV),避免了10kV 鎢元素和硅元素的線系重疊問題,得到了鎢元素在 材料中的正確面分布和線分布結(jié)果通過將20kV 下得到的面分布和線分布數(shù)據(jù)進(jìn)行再處理,將鎢元 素的線系從 L改回 M ,鎢元素回歸紊亂分布,進(jìn)一步驗(yàn)證了10kV 下鎢元素分布紊亂是由鎢元 素的 M 線系和硅元素的 K 線系重疊引起的建議在采用能譜儀對(duì)材料進(jìn)行分析時(shí),應(yīng)當(dāng)對(duì) 軟件自動(dòng)得到的結(jié)果與樣品實(shí)際情況進(jìn)行對(duì)比分 ,判斷得到的結(jié)果是否正確對(duì)于輕元素的 K 系與重元素的 M 線系重疊的情況,可提高加速電壓 20kV,使過壓比達(dá)到2~3,激發(fā)重元素的高能 線系

來源:材料與測(cè)試網(wǎng)


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